| 发明名称 |
PRODUCTION OF TARGET FOR SPUTTERING BY GA-DEPOSITION METHOD AND DEVICE THEREFOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06158306(A) |
申请公布日期 |
1994.06.07 |
| 申请号 |
JP19920318566 |
申请日期 |
1992.11.27 |
| 申请人 |
VACUUM METALLURGICAL CO LTD |
发明人 |
HAYASHI CHIKARA;ISHIMARU YASUSHI;KASHIYUU SEIICHIROU |
| 分类号 |
C22C1/00;C23C14/34;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C22C1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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