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发明名称 Etching process for silicon (100).
摘要
申请公布号 EP0309782(B1) 申请公布日期 1994.06.01
申请号 EP19880114535 申请日期 1988.09.06
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 BINDER, JOSEF, DR., DIPL. PHYS.;EHRLER, GUENTER, DIPL. PHYS.;REICHERT, HANSJOERG, DR., DIPL. PHYS.
分类号 H01L21/306;H01L21/3063;H01L21/308;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/38 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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