发明名称 Process for producing semiconductor devices comprising at least a step of reactive ion etching.
摘要
申请公布号 EP0347992(B1) 申请公布日期 1994.06.01
申请号 EP19890201585 申请日期 1989.06.19
申请人 LABORATOIRES D'ELECTRONIQUE PHILIPS;N.V. PHILIPS' GLOEILAMPENFABRIEKEN 发明人 AUTIER, PHILIPPE;AUGER, JEAN-MARC
分类号 H01L21/302;H01L21/306;H01L21/3065;H01L21/308;(IPC1-7):H01L21/308 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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