| 发明名称 |
Dihalogen-dimethyl-monoazido-mononitro-benzole, Photoresistzusammensetzungen auf deren Basis, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE4240193(A1) |
申请公布日期 |
1994.06.01 |
| 申请号 |
DE19924240193 |
申请日期 |
1992.11.30 |
| 申请人 |
NATIONAL RESEARCH DEVELOPMENT CORP., NEU DELHI/NEW DELHI |
发明人 |
EASWARAN, SAMBASIVAN VENKAT, NEW DELHI |
| 分类号 |
C07C247/16;C09D161/10;G03F7/008;(IPC1-7):C07C247/16;A01N33/26;G03F7/012 |
主分类号 |
C07C247/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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