发明名称 |
ACID BATH FOR THE GALVANIC DEPOSITION OF COPPER, AND THE USE OF SUCH A BATH. |
摘要 |
Un bain acide aqueux sert à provoquer le dépôt galvanique de revêtements brillants, ductiles et nivelés en cuivre servant aussi bien à la décoration d'objets qu'au renforcement des pistes conductives de circuits imprimés. Ce bain se caractérise par le fait qu'il contient du dialkyléther de (poly)alkylèneglycol. Associés à des composés thiol contenant des groupes solubles dans l'eau, ces additifs permettent d'obtenir des électrolytes ayant une stabilité remarquable. On peut également y associer avec succès des composés supplémentaires de phénazonium, des composés polymères d'azote et/ou des composés thio azotés, selon les propriétés que l'on souhaite obtenir. |
申请公布号 |
EP0598763(A1) |
申请公布日期 |
1994.06.01 |
申请号 |
EP19920916259 |
申请日期 |
1992.07.22 |
申请人 |
ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH |
发明人 |
DAHMS, WOLFGANG;WESTPHAL, HORST;JONAT, MICHAEL |
分类号 |
C25D3/38;C25D7/00;(IPC1-7):C25D3/38 |
主分类号 |
C25D3/38 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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