发明名称 ACID BATH FOR THE GALVANIC DEPOSITION OF COPPER, AND THE USE OF SUCH A BATH.
摘要 Un bain acide aqueux sert à provoquer le dépôt galvanique de revêtements brillants, ductiles et nivelés en cuivre servant aussi bien à la décoration d'objets qu'au renforcement des pistes conductives de circuits imprimés. Ce bain se caractérise par le fait qu'il contient du dialkyléther de (poly)alkylèneglycol. Associés à des composés thiol contenant des groupes solubles dans l'eau, ces additifs permettent d'obtenir des électrolytes ayant une stabilité remarquable. On peut également y associer avec succès des composés supplémentaires de phénazonium, des composés polymères d'azote et/ou des composés thio azotés, selon les propriétés que l'on souhaite obtenir.
申请公布号 EP0598763(A1) 申请公布日期 1994.06.01
申请号 EP19920916259 申请日期 1992.07.22
申请人 ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH 发明人 DAHMS, WOLFGANG;WESTPHAL, HORST;JONAT, MICHAEL
分类号 C25D3/38;C25D7/00;(IPC1-7):C25D3/38 主分类号 C25D3/38
代理机构 代理人
主权项
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