| 摘要 |
<p>Vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren, eine Vorrichtung sowie eine Zubereitung zur Herstellung einer Pulverbeschichtung, bei dem eine Suspension von Pulverteilchen versprüht und der Sprühstrahl auf das zu beschichtende Substrat gerichtet wird, wobei 1) eine Suspension von Pulverteilchen in einem verflüssigten Gas eingesetzt wird, wobei das Gas unter einem Druck von maximal 20 bar verflüssigt worden ist, und 2) das flüssige Gas vor, bei oder nach dem Versprühen der Suspension verdampft wird.</p> |
