发明名称 High Impedance Plasma Ion Implantation Method and Apparatus
摘要
申请公布号 CA2102384(A1) 申请公布日期 1994.05.05
申请号 CA19932102384 申请日期 1993.11.03
申请人 HUGHES AIRCRAFT COMPANY 发明人 SCHUMACHER, ROBERT W.;MATOSSIAN, JESSE N.;GOEBEL, DAN M.
分类号 C23C14/48;H01J37/317;H01J37/32;H01L21/265;H01L21/324;(IPC1-7):H01L21/265 主分类号 C23C14/48
代理机构 代理人
主权项
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