| 主权项 |
1﹒一种具下结构式之化合物 其中 A是─CH=CH一B; ─(CH2)p─X─B,其中P是O、1或 2,且X是一键,─NH─或─S(O)o─2─ 杂芳基,其系选自下列包括:啶基,嘧 啶基,咪唑基,唑基,唑基,嗯基 ,唑基,喃基,基,基及经 取代之杂芳基,其中杂芳基系如上定义及 W是环碳原子上之1─3个取代基,其系 选自下列包括: 低碳烷氧基,羟基及第三丁基二甲基矽烷 氧基甲基,及其中在该经取代之杂芳基环 氮原子之取代基,当存在时为低碳烷基; 或 D是B'─(CH2)mC(O)─,其中m是1 ,2,5,4或5; B'─(CH2)q─,其中q是2,3,4 ,5或6; B'─(CH2)e─Z─(CH2 )r─,其 中Z是─O─,─C(O)─,伸苯基, ─NR3─或S(O)o─2─,e是0,1,2, 3,4或5且r是1,2,3,4或5, 但e及r之总和是1,2,3,4,5或 B'─(C2一C6伸烯基)─;B'─(c4 ─C6)伸二烯基)一; B'─(CH2)f─V─(CH2)R─,其中 V是C3─C6伸环烷基,f是1,2,3 4或5,且g是0,1,2,3,4, 或5,但f及g之总和是1,2,3,4 ,5或6; T─(CH2)S,其中T是3─6个碳原子 之环烷基,且S是1,2,3,4,5或 6;或 基甲基; R是氢、C1─C4烷基、或B─ (CH2)h─,其中h是0,1,2或3; K1,R2及R3独立地选自下列基团包括 氢,低碳烷基,羟基低碳烷基,低碳烷氧 基,烷氧基烷基,烷氧基烷氧基,烷氧羰 基烷氧基,低碳烷其三醯基,低碳烷基低 碳烷二醯基,烯丙氧基,─CF3, ─OCF3,氧基,R14─氧基,苯氧 基,R14─苯氧基,二氧戊环基、NO2, ─NR10R11 ,NR10R11(低碳烷基)─,羟基, ─NHC(O)OR5,─NHC(O)R5,R6O2SNH ─,(R6O2S)2N─,─S(O)2NH2,─ S(O)o─2R10,第三丁基二甲基矽烷氧其中 基,─C(O)R12, 或R1是氢且R2及R3, ,加上与之相接之碳原子,形成一个二氧 戊环; R'1,R'2及R'3独立地选自下列基 团包括氢,NO2,─NR10R11及卤基; 其中n是O,1,2 或3,氢基、四氢基、啶基或 基; R5是低碳烷基; R6正低碳烷基; R7是低碳烷基、低碳烷氧基、羟基、卤 基、─NR10R11,NO2,─CN,─S(O)o─2─ (低碳烷基),─COOR9,一COR12,苯氧 基,卡氧基,─OCF3,或第三丁基二甲 基矽烷氧基,且其中n是2或3,R7其 团可相同或不同; R8是氢,低碳烷基; R9是氢,低碳烷基; R10及R11独立选自氢及低碳烷基; R12是氢,羟基,烷氧基或低碳烷基; R13是─O─,─NH─,或─N(低碳烷基 )─;及 R14是1─3个独立选自下列之基团,包 括:低碳烷基,低碳烷氧基,─COON, NO2,─NR10R11,羟基或卤基; 或其药学上可接受的盐。 2﹒根据申请专利范围第1项之化合物,其中 R是氢。 3﹒根据申请专利范围第1或2项之化合物, 其中D是B'─(CH2)8─,B'─ (CH2),─Z─(CH2)r,B'─(C2─ C6伸稀基)─或B'─(CH2)f─V─ (CH2)g─,其中B',Z,V,q,e ,r,f及g如申请专利范围第1项中所 定义。 4﹒根据申请专利范围第3项之化合物,其中 D是B'─(CH2)q─,其中B'是苯基, 且q是3或4; B'─(CH2)e─Z─(CH2)r,其中B' 是对位─氟苯基或对位─甲氧苯基,e是 零,Z是─O─,且r是2;B'─(C2 ─C6伸烯基)─是3─苯基─1─丙烯 基;或 B'─(CH2)f─V─(CH2)g─,其中 B'是苯基,f是l,V是伸环丙基,且 g是零。 5﹒根据申请专利范围第1项之化合物,其中 A是─(CH2)p─X─B,其中X、B及 P如申请专利范围第1项中的定义。 6﹒根据申请专利范围第5项之化合物,其中 P是零且X是一键。 7﹒根据申请专利范围第1项之化合物,其中 R1,R2及3系选自下列包括氢,羟基, 低碳烷氧基,NO2,烷氧基烷氧基,间位 ─卤基,烷氧烷基碳烷二醯基,NR10R11(低 碳烷氧基)─,烯丙氧基,苯氧基,烷氧 羰基烷氧基及─(O)R12。 8﹒根据申请专利范围第1,2,3,4,5 或6项之化合物,其中R4是苯基,R7─ 经取代之苯基或氢基。 9﹒根据申请专利范围第8项之化合物,其中 R7选自下列包括:低碳烷基、低碳烷氧 基、卤基、一OCF3.低碳烷硫基, ─NR10R11.─CN、OH及─COR12。 10﹒一种降低胆固醇之药学组成物,包含降 低胆固醇有效剂量的下式化合物 其中n是0,1,2或3,氢基,四氢 基,啶基或基; R7是低碳烷基,低碳烷氧基,羟基,卤 基,─NR10R11,NO2,─CN,─S(O)o─2─ (低碳烷基),─COOR9,─COR12,苯氧 基,氧基,─OCF3,或第三丁基二甲 基矽烷基氧基,及其中n是2或3,该 R7其可为相同或不同; R9是氢或低碳烷基; R10及R11是独立地选自氢及低碳烷基; R12是氢,羟基,烷氧基或低碳烷基; R23─G是─CH=CH─B; ─(CH2)p─X─B,其中P是O、1或 2且X是一键,─NH 或 S(O)o─2; 杂芳基系选自下列基团,包括:啶基, 嘧啶基,咪唑基,唑基,唑基,嗯 基,唑基,喃基,基,基及 苯并喃基,及对其含氮杂芳基N─氧化 物,W─取代杂芳基,其中杂芳基如上所 定义而W是该环碳原子 上 1─3个取 代基,其选自下列基团:低碳烷氧基,羟 基及第三丁基二甲基矽烷氧基甲基,及其 中该取代之杂芳 环氮原子上之取代基, 当存在时为低碳烷基;或─(CO)─B; R22─F─是氢,C1─C4烷基或B─ (CH2)h─,其中h为O,1,2或3; R21─E─是B'─(CH2)mC(O)─,其 中m是1,2,3,4或5; B'─(CH2)q─,其中q是2,3,4 ,5或6; B'─(CH2)e─Z─(CH2)r─,其 中Z为─o─,─C(O)─,伸苯基, ─NR8─或S(O)o─2─,e是1,2,3, 4或5及r是1,2,3,4或5,但e 及r之总和是1,2,3,4,5或6; B'─(C2─C6伸烯基)─;B'─(C4 ─C6烷基二伸烯基)一; B'─(CH2)f─V─(CH2)g─,其中 V是C3─C6环伸烯基,f是1,2,3 ,4或5及9是0,1,2,3,4 或 5,但f及g之总和是1,2,3,4, 5或6; T─(CH2)5,其中T是3至6个碳原子 之环烷基及5是1,2,3,4,5或6 甲基;或 C3─C6环伸烷基;C1─C10伸烷基; C1一C10伸烯基;如上所定义独立以下 列基团插入之伸烷基或伸烯基,包括─O ─,一S─,─SO─,─SO2─,NR8及─ C(O)一;或如上定义以一或多个苯基取代 之插入伸烷基链;或─NR10R11 ; R1,R2及R3独立选自下列之取代基, 包括氢,低碳烷基,羟基低碳烷基,低碳 烷氧基,烷氧基烷基,烷氧基烷氧基,烷 氧羰基烷氧基,低碳烷二醯基,低碳烷基 低碳烷二醯基, 烯丙氧基,─CF3,─ 0CF 3,氧基,R14─氧基,苯氧基 ,R14─苯氧基,二氧戊环基、NO2,─ NR10R11,NR10R11(低碳烷氧基)─,羟基, ─NHC(O)OR5,─NHC(O)R5,R6O2SNH ─,(R6O2S)2N─,─S(O)2NH2,─ S(O)o─2R10,第三丁基二甲基矽烷氧基甲 基, ,或R 1是氢且R 2及R 3 加上与之相接 之碳原子共同形成二氧戊环基 ; R '1,R'2及R'3,为独立选自下列之基 团 ,包括氢 ,No2,─ NR10R11及卤基 ; R 5是低碳烷基 ; R6是低碳烷基 ; R 8是氢或低碳烷基 ; R13是─ O ─ ,─ CH2─ ,─NH─或─N' 低碳烷基 ) ─ ;及 R14是独立地选自下列之 1 ─ 3个基团 , 包括低碳烷基 ,低碳烷氧基 ,─ COOH , NO2 ,─ NR10R11 ,羟基或卤基 ; 或其药学上可接受之盐 ; 于药学上可接受之载体中 。 11 ﹒ 根据申请专利范围第1项之化合物 ,系 选自如下表所列之化合物 : 12﹒ 根据申请专利范围第 1项之化合物 ,其 系 (3R , 4S) ─ 1 , 4 ─双 ( 4─甲氯苯 基 ) ─ 3 ─ ( 3 ─ 苯丙基 )一 2 ─丁啶 酮。 13 ﹒ 根据申请专利范围第10项之组成物 ,其 中所投予之化合物系选自如下表所列之化 合物 : 14﹒一种制备根据申请专利范围第1项之化 合物之方法,其中R是H,且D及A具反 式相对立体化学,该方法包括环化下式之 羟醯胺 其中D,A及R4界定根据申请专利范围 第1项方法;系以下列处理: (i)二烷基偶氮二羟酸酯;或 (ii)二成三氯磷酯基氯,硷水溶液及转相 催化剂,之后生成约二一或三氯苯甲酸 以硷水溶液及转相催化剂处理;或 (iii)二烷基氯磷酸酯、转水溶液及转相 催化剂;或 (iV)二─或三氯醯基氯及金属氢化物。 15﹒一种制备根据申请专利范围第1项之化 合物之方法,该化合物具下式: (c)以下列烯醇化(b)步骤产物: (i)三氟磺酸二烷基硼及二级胺硷;或 (ii)TiCl4及四甲基乙二胺(TMEDA)或 TMEDA及二乙胺之混合物; 以后以式A─CHO之醛缩合,其中A 如上文般定义; (d)以硷及过氧化氢水解(c)步骤产物; (e)以式R4NH2之胺缩合(d)步骤产物, 其中R4如上文般定义,系以脱水性偶 合剂处理,视所需地加有活化剂;及 (f)环化(e)步骤产物,系以下列任一处 理; (i)二烷基偶氮二羧酸酯及三烷基膦; 或 (ii)二一或三一氯醯基氯,硷水溶液 及转相催化剂,之后生成的二─或三 ─氯苯甲酸酯以硷水溶液及转相催化 剂处理;或 (iii)二烷基氯磷酸酯、 相催化剂;或 (iv)二─或三氯醯基氯及金属氢化物 转水溶液及转 16﹒一种制备根据申请专利范围第1项之化 合物之方法,其中R是氢,且D及A具反 式相对立体化学,此方法包括: (a)以TiCl4及四甲基乙二胺(TMEDA)烯 醇化下式化合物 其中D,A及R4如申请专利范围第1项 般定义,此方法包括: (a)以氯化剂反应式DCH2一COOH(其中 D如上述)之羧酸; (h)以强硷将下式之对掌性唑啶酮去质 子化 再与式A─CH=N─R4之亚胺缩合, 其中A及R4如上文般定义,且其中下 基团 代表下式之对掌性佐剂 R18及R19独立选自下列包括:氢,C1 ─C6烷基,苯基,基,经取代之苯基 ,经取代之基及基;再以(a)步骤之 产物处理所生成之阴离子; 其中R18及R19独立选自下列包括:氢 , C1─C6烷基,苯基,基,经取代 之苯基,经取代之基及基;及 (b)以强的非亲核性硷处理,以环化(a) 步骤产物。 17﹒一种制备根据申请专利范围第1项之化 合物之方法,该方法包括: (a)以强硷处理式D─CH(R)一C(O) OR17 之酯,其中R17是低碳烷基、盖基、或 10一(二异丙基磺醯胺基)一异基, 再以式A─CH=N─R4之亚胺处理, 其中A及R4如申请专利范围第1项所 定义;或 (b)欲制备其中R非氢之申请专利范围第 1项之化合物,则以强硷及烷化剂或酯 化剂反应其中R是氢之申请专利范围第 1项之化合物;或 (C)欲制备其中R是氢,且D及A具顺式 相对立体化学之申请专利范围第1项之 化合物,则于─80℃至─40℃下以强硷 及酸的质子源反应其中R是氢,且D及 A具反式相对立体化学之申请专利范围 第1项之化合物;或 (d)欲制备其中R是氢,且D及A具反式 相对立体化学之申请专利范围第1项之 化合物,则以硷金属第三﹒丁氧化物反 应其中R是氢,且D及A具反式相对立 体化学之申请专利范围第1项之化合物 ,再以酸中止;或 (e)将式D─CH(R)一C(O)─Z之羧酸衍 生物,其中D及R如申请专利范围第1 项中的定义,且Z是Cl, 以式A─CH=N─ R4,其中A及R4如申 请专利范围第1项之中所定义,三亚胺反 应,并有三级胺硷之存在。 |
