WET PROCESSING EQUIPMENT FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE,申请号JP19920264475-传众专利搜索

发明名称	WET PROCESSING EQUIPMENT FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号	JPH06120202(A)	申请公布日期	1994.04.28
申请号	JP19920264475	申请日期	1992.10.02
申请人	NEC KYUSHU LTD	发明人	HARADA TAKEMI
分类号	B08B11/02;H01L21/304;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/306	主分类号	B08B11/02
代理机构		代理人
主权项
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