| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06102668(A) |
申请公布日期 |
1994.04.15 |
| 申请号 |
JP19920249630 |
申请日期 |
1992.09.18 |
| 申请人 |
MITSUI TOATSU CHEM INC |
发明人 |
NAKAYAMA ICHIRO;YOKODE SEIJI |
| 分类号 |
G03F7/004;C08G59/18;G03F7/027;G03F7/028;G03F7/038;H05K3/28;(IPC1-7):G03F7/038 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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