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发明名称 Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und Verfahren zur Herstellung einer Lötstoppmaske
摘要
申请公布号 DE4234072(A1) 申请公布日期 1994.04.14
申请号 DE19924234072 申请日期 1992.10.09
申请人 MORTON INTERNATIONAL, INC., CHICAGO, ILL., US 发明人 SCHUETZE, GERALD, DR., 6238 HOCHHEIM, DE;LINGNAU, JUERGEN, DR., 6500 MAINZ, DE
分类号 C08F2/50;C08G59/24;C08L63/00;G03F7/027;G03F7/028;G03F7/032;H05K3/28;(IPC1-7):G03F7/032;C08F20/20;C08L33/02;C08K5/15;H05K3/34 主分类号 C08F2/50
代理机构 代理人
主权项
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