| 发明名称 |
PLASMA CLEANING OF THIN FILM DEPOSITION CHAMBER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0697075(A) |
申请公布日期 |
1994.04.08 |
| 申请号 |
JP19920243881 |
申请日期 |
1992.09.14 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
NOZAKI HIDETOSHI;FURUKAWA AKIHIKO;IIDA YOSHINORI;YAMAGUCHI TETSUYA |
| 分类号 |
H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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