| 发明名称 |
METHOD FOR CONTROLLING AMOUNT OF APPLICATION OF SOLUBLE METAL SALT TO SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0688774(A) |
申请公布日期 |
1994.03.29 |
| 申请号 |
JP19920239377 |
申请日期 |
1992.09.08 |
| 申请人 |
KYUSHU ELECTRON METAL CO LTD;SUMITOMO SITIX CORP |
发明人 |
WATANABE TORU |
| 分类号 |
G01N1/28;H01L21/306;H01L21/66;(IPC1-7):G01N1/28 |
主分类号 |
G01N1/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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