| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zu reinigenden Behandlung von Obeflächen mit einem Niederdruckplasma, das aus einer Basisgasmischung bei Drücken unterhalb 100 mbar erzeugt wird. Zur Erzielung eines hochwirksamen Reinigungsplasmas wird vorgeschlagen, daß das Plama ausgehend von einer Basisgasmischung bestehend aus 0.5 bis 25 Vol-% O2, 80 bis 0.5 Vol-% H2, 10 bis 65 Vol-% eines Halogenkohlenwasserstoffs oder SF6 und 0 bis 40 Vol-% Ar, N2 oder He erzeugt wird, wobei dieses Plasma gleichzeitig eine Oxidations- und eine Reduktionswirkung entfaltet.</p> |
