发明名称 木匾立体雕刻字型制法
摘要 一种木匾立体雕刻字型制法,特别是予以依字型剪裁而成的胶质遮型片,或是依字型作镂空剪裁而成的胶质空型片,于木匾平面上预定位置处贴滞;经以高压、致密的喷砂处理,由木匾正上方作全面通过;即可以形成木匾正面木质部分在受到喷砂冲击处,产生凹陷;而在未受喷砂冲击处,形成浮凸;在经喷砂所形成凹陷部分,则依木质年轮分布,微成波浪状表面,具有自然木质呈现的特殊美感效果,本制法省工、省时、经济效益显著。
申请公布号 CN1083782A 申请公布日期 1994.03.16
申请号 CN92110355.7 申请日期 1992.09.10
申请人 林益宽 发明人 林益宽
分类号 B44C3/06;B24C1/04 主分类号 B44C3/06
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 章社杲
主权项 一种木匾立体雕刻字型制法,其特征包括:将预依字型剪裁而成的胶质遮型片,或是依字型作镂空剪裁而成的胶质空型片,于木匾平面上预定位置处贴滞定位;再经以高压、致密喷砂处理,由木匾正上方作全面通过;即可以形成木匾正面木质部分在受到喷砂冲击处,产生凹陷;而在未受喷砂冲击处,形成浮凸;而达到依遮型片或凹空型片字型设定,完成预定浮凸或凹陷字型,在所设定匾体面部位置产生。
地址 中国台湾