| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING THICKNESS OF OXIDE FILM ON SURFACE OF SILICON WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0669303(A) |
申请公布日期 |
1994.03.11 |
| 申请号 |
JP19920237769 |
申请日期 |
1992.08.13 |
| 申请人 |
MITSUBISHI MATERIALS CORP |
发明人 |
MIYAMOTO KAZUNORI;FUKUDA MASAMITSU;SAYAMA YASUMASA |
| 分类号 |
G01B21/08;H01L21/306;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66 |
主分类号 |
G01B21/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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