Process for making microstructures.

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturkörpern mit Strukturtiefen von mehreren µm bis in den mm-Bereich durch bildmäßiges Bestrahlen von Polymeren mit Röntgenstrahlen und Entfernen dar bildmäßig bestrahlten Bereiche der Polymeren, wobei die Polymeren vor dem bildmäßigen Bestrahlen in Schichtdicken von mehreren µm bis in den mm-Bereich durch Aufschmelzen in einem Rahmen mit einem Preßstempel unter Druck auf einen elektrisch leitfähigen Träger aufgebracht und fest verankert werden. Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich insbesondere zur Berstellung von Mikrostrukturkörpern mit Strukturtiefen zwischen 3 µm und 2000 µm und kleinsten lateralen Abmessungen von unter 10 µm. <IMAGE>