发明名称 COMPOSICION DE CAPA PROTECTORA POSITIVA.
摘要 Se describe una composición de capa protectora positiva que comprende un compuesto de quinonadiazina y una resina soluble en álcali que contiene resina (A) obtenible por medio de una reacción de condensación de por lo menos un compuesto representado por la fórmula general (I). Esta composición de capa protectora positiva es excelente en propiedades tales como perfil, resolución, resistencia al calor, ect., y casi completamente libre de escoria.
申请公布号 MX9303079(A) 申请公布日期 1994.02.28
申请号 MX19930003079 申请日期 1993.05.26
申请人 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED 发明人 HIROSHI MORIUMA;KYOKO NAGASE;HARUYOSHI OSAKI;KAZUHIKO HASHIMOTO
分类号 G03F7/022;C08G8/04;G03F7/023;H01L21/027;(IPC1-7):C09D161/04 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
主权项
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