发明名称 |
COMPOSICION DE CAPA PROTECTORA POSITIVA. |
摘要 |
Se describe una composición de capa protectora positiva que comprende un compuesto de quinonadiazina y una resina soluble en álcali que contiene resina (A) obtenible por medio de una reacción de condensación de por lo menos un compuesto representado por la fórmula general (I). Esta composición de capa protectora positiva es excelente en propiedades tales como perfil, resolución, resistencia al calor, ect., y casi completamente libre de escoria.
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申请公布号 |
MX9303079(A) |
申请公布日期 |
1994.02.28 |
申请号 |
MX19930003079 |
申请日期 |
1993.05.26 |
申请人 |
SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED |
发明人 |
HIROSHI MORIUMA;KYOKO NAGASE;HARUYOSHI OSAKI;KAZUHIKO HASHIMOTO |
分类号 |
G03F7/022;C08G8/04;G03F7/023;H01L21/027;(IPC1-7):C09D161/04 |
主分类号 |
G03F7/022 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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