PROCESO PARA GENERAR UN RECUBRIMIENTO CONFIGURADOSOBRE LA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO

摘要

La presente invención es un proceso, sin estarcido, para la producción de un recubrimiento con un patrón sobre un sustrato polimérico o de cerámica, en donde el patrón está definido por la topografía del sustrato. La invención utiliza una fuente de energía de elevada intensidad/elevada fluencia para impactar el sustrato eliminando, así, selectivamente una porción del recubrimiento. La eliminación depende de la topografía del sustrato y de la energía aplicada, y forma un patrón de material residual del recubrimiento sobre el sustrato. El recubrimiento restante puede producirse a propósito sobre superficies que forman un ángulo con la fuente de energía y/o en un hueco desde el plano más elevado de la configuración topográfica.