| 发明名称 |
RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0651517(A) |
申请公布日期 |
1994.02.25 |
| 申请号 |
JP19920206433 |
申请日期 |
1992.08.03 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
HATTORI KOJI;UENO TAKUMI;IMAI AKIRA;SUGA OSAMU |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/029;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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