发明名称 |
接触式记录的磁记录磁盘 |
摘要 |
一种基于常规磁盘技术的磁记录磁盘,它既有极为光滑的上表面又有高矫顽力,并且使用在要求有极其光滑的磁头-磁盘界面和高矫顽力磁盘的接触式记录磁盘存储器中。磁盘基底上的高精加工的无织构的NiP镀层被氧化并形成一个NiO膜。该NiO膜允许后续溅镀的磁层具有极高的矫顽性,各层与抛光的NiP光滑表面一致,保持了磁盘顶层极其光滑的表面。在形成基底上的NiO膜的最佳方法中,基底在空气中低于能使NiP膜晶化的温度下被韧化。 |
申请公布号 |
CN1082750A |
申请公布日期 |
1994.02.23 |
申请号 |
CN93108693.0 |
申请日期 |
1993.07.07 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
玛丽F·多纳;塔达施·约基;安东尼·吴;丹S·帕克 |
分类号 |
G11B5/62;G11B5/82;G11B5/84 |
主分类号 |
G11B5/62 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利代理部 |
代理人 |
范本国 |
主权项 |
1、一种薄膜金属合金磁记录磁盘,其特征是:一个包含带有一个镍-磷表面镀层的铝合金的基底;一个在镍-磷镀层上形成的氧化镍膜;一个在氧化镍膜上形成的垫层;以及一个在垫层上形成的含有钴基合金的磁层。 |
地址 |
美国纽约 |