发明名称 TEOS based plasma enhanced chemical vapor deposition process for deposition of silicon dioxide films.
摘要
申请公布号 EP0272140(B1) 申请公布日期 1994.02.23
申请号 EP19870311193 申请日期 1987.12.18
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 WANG, DAVID NIN-KOU;WHITE, JOHN M.;LAW, KAM S.;LEUNG, CISSY;UMOTOY, SALVADOR P.;COLLINS, KENNETH S.;ADAMIK, JOHN A.;PERLOV, ILYA;MAYDAN, DAN
分类号 C23C16/44;C23C16/48;C23C16/04;C23C16/40;C23C16/42;C23C16/509;C23C16/455;C23C16/46;C23C16/50;C23C16/54;C23F4/00;C30B25/14;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/683;(IPC1-7):C23C16/54 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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