| 摘要 |
2.1 Es soll ein besonders einfaches Verfahren der genannten Art angegeben werden, mit dem beliebige reliefartige Oberflächenstrukturen kontrolliert und gut reproduzierbar hergestellt werden können. 2.2 Dazu wird auf der Oberfläche des Substrats eine Photolackschicht mit einer reliefartigen Oberflächenstruktur, die im wesentlichen gleich der zu erzeugenden reliefartigen Oberflächenstruktur auf der Oberfläche des Substrat ist, erzeugt, und mit einem Abtragverfahren, das sowohl den Photolack als auch vom Photolack freies und/oder freiwerdendes Substratmaterial abträgt, der Photolack entfernt. 2.3 Anwendung überall dort, wo mikroskopisch reliefartig strukturierte Oberflächenstrukturen angewendet werden, wie in der Optik oder Mikromechanik. <IMAGE>
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