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发明名称
FABRICATION METHOD FOR THE HIGH TEMPERATUREOXIDATION LAYER IN HORIZONTAL TYPE LPCVD APPARATUS
摘要
申请公布号
KR1019940001281(B1)
申请公布日期
1994.02.18
申请号
KR1019900004658
申请日期
1990.04.04
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
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