发明名称 MANUFACTURE OF SELF-ALIGNED DIFFUSED BARRIER IN SEMICONDUCTOR ELEMENT BY MAKING USE OF LIFT-OFF PROCESS AND SEMICONDUCTOR ELEMENT PROVIDED WITH DIFFUSED BARRIER
摘要
申请公布号 JPH0629239(A) 申请公布日期 1994.02.04
申请号 JP19930035986 申请日期 1993.02.25
申请人 EASTMAN KODAK CO 发明人 MADAFU MEERA
分类号 G03F7/26;H01L21/027;H01L21/28;H01L21/285;(IPC1-7):H01L21/28 主分类号 G03F7/26
代理机构 代理人
主权项
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