| 发明名称 |
REACTIVE ION ETCHING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0629257(A) |
申请公布日期 |
1994.02.04 |
| 申请号 |
JP19930091102 |
申请日期 |
1993.04.19 |
| 申请人 |
INTERNATL BUSINESS MACH CORP <IBM> |
发明人 |
PATORISHIA DERARIO DEIBUISU;DANA KURISUTEIN NOOSUKATSUTO |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3065;H01L29/78;H05H1/46;(IPC1-7):H01L21/302;H01L29/784 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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