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发明名称 EXPOSURE METHOD FOR X-RAY
摘要
申请公布号 JPH0629192(A) 申请公布日期 1994.02.04
申请号 JP19920183454 申请日期 1992.07.10
申请人 HITACHI LTD 发明人 OGAWA TARO;MURAYAMA SEIICHI;TAKEDA EIJI
分类号 G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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