INFRARED VAPOR DEPOSITION METHOD FOR THIN FILM,申请号JP19920206027-传众专利搜索

发明名称	INFRARED VAPOR DEPOSITION METHOD FOR THIN FILM
摘要
申请公布号	JPH0625831(A)	申请公布日期	1994.02.01
申请号	JP19920206027	申请日期	1992.07.09
申请人	HORIBA LTD	发明人	ISHIDA MASAHIKO
分类号	C23C14/16;C23C14/06;C23C14/18;C23C14/24;G02B1/10;G02B5/28;(IPC1-7):C23C14/16	主分类号	C23C14/16
代理机构		代理人
主权项
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