| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT MASK PATTERN FAULT DETECTING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0613591(A) |
申请公布日期 |
1994.01.21 |
| 申请号 |
JP19920193372 |
申请日期 |
1992.06.26 |
| 申请人 |
NEC CORP |
发明人 |
KISHIMOTO ARITOYO;AIZAWA HISAMITSU |
| 分类号 |
H01L21/66;H01L21/82;H01L27/118;(IPC1-7):H01L27/118 |
主分类号 |
H01L21/66 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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