Procédé de réglage d'une machine d'exposition photolithographique et dispositif associé.

摘要

L'invention concerne un procédé de réglage d'une machine d'exposition photolithographique.
A partir d'une plaquette témoin munie de motifs de test identiques, le procédé consiste à illuminer (1000) successivement les motifs de test en lumière blanche, à mesurer (2000) le coefficient de réflectivité de chaque motif de test, et à établir (3000) la loi de correspondance de ce coefficient en fonction, pour chaque emplacement, du paramètre de défocalisation du faisceau d'illumination. La valeur de mise au point optimale est déterminée (4000) par critère de seuil de la valeur du coefficient de réflectivité).
Application à la fabrication des circuits intégrés.