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发明名称 Diffusionsbarrierenstruktur für eine Halbleitervorrichtung.
摘要
申请公布号 DE68909090(T2) 申请公布日期 1994.01.13
申请号 DE1989609090T 申请日期 1989.04.18
申请人 FUJITSU LTD., KAWASAKI, KANAGAWA, JP 发明人 NISHIDA, KENJI, INAGI-SHI TOKYO, 206, JP
分类号 H01L21/768;H01L23/532;(IPC1-7):H01L21/285;H01L23/50;H01L21/60 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
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