| 摘要 |
<p>Bei einer Anlage zur Behandlung von Objekten unter Reinluftraum-Bedingungen in wenigstens einer Prozeßkammer (1) mit Fluidein- und auslässen (4, 5, 15, 21, 24, 31), einem Kammertopf (3) und einem abnehmbaren Kammerdeckel (2) läßt sich eine automatische, mehrstufige Behandlung eines Objekts (11) nach dem Einkammer-Prinzip dadurch durchführen, daß die Prozeßkammer (1) zur Durchführung mehrerer Verfahrensschritte für die Behandlung der Objekte (11) ausgebildet ist. Das Objekt (11), beispielsweise ein Wafer, ist in der Prozeßkammer (1) vorzugsweise auf einem sich drehenden Objektträger (13) derart angeordnet, daß eine gleichzeitige Behandlung beider Seiten mit Fluids möglich ist.</p> |
