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发明名称 POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PROCESS FOR ITS PRODUCTION.
摘要
申请公布号 EP0302941(B1) 申请公布日期 1993.12.29
申请号 EP19880901324 申请日期 1988.02.02
申请人 NIPPON PAINT CO., LTD. 发明人 SEIO, MAMORU NIPPON PAINT CO., LTD.;NISHIJIMA, KANJI;ISHIKAWA, KATSUKIYO
分类号 G03C1/72;C08G59/14;C08G59/42;C08G59/62;G03F7/023;(IPC1-7):G03C1/73;C08F299/02;C08F30/02;C08F20/38;C08F299/04;C08F20/26 主分类号 G03C1/72
代理机构 代理人
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