| 发明名称 | 亚甲基吩噻嗪低聚物在防止反应器积垢上的应用 | ||
| 摘要 | 以上式所示的亚甲基吩噻嗪低聚物，式中n的平均值为1至5，用来减轻或消除在氯乙烯和共聚用单体聚合反应时形成的积垢，其方法为将该低聚物的溶液涂敷在聚合区的内壁或将该低聚物加入聚合区中。 | ||
| 申请公布号 | CN1079969A | 申请公布日期 | 1993.12.29 |
| 申请号 | CN93100468.3 | 申请日期 | 1988.07.30 |
| 申请人 | 西洋化学股份有限公司 | 发明人 | 来蒙得C·第渥德 |
| 分类号 | C08F114/06;C08F2/44;C08F2/02 | 主分类号 | C08F114/06 |
| 代理机构 | 上海专利事务所 | 代理人 | 张绮霞;吴俊 |
| 主权项 | 1、氯乙烯和可选择性的浓度高至约80%(摩尔%)的乙烯基不饱和共聚用单体的聚合方法，其改进包括使聚合反应在式(Ⅰ)所示的亚甲基吩噻嗪低聚物存在下进行。<img file="931004683_IMG2.GIF" wi="1667" he="393" /> | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||