发明名称 |
PROJECTING EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSING METHOD THEREFOR |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH05343284(A) |
申请公布日期 |
1993.12.24 |
申请号 |
JP19920146076 |
申请日期 |
1992.06.08 |
申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
OBARA HITOSHI;HORI HITOSHI |
分类号 |
G03B27/32;G03B27/54;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03B27/32 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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