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发明名称 METHOD FOR CLEANING WAFER
摘要
申请公布号 JPH05343381(A) 申请公布日期 1993.12.24
申请号 JP19920151828 申请日期 1992.06.11
申请人 NIKON CORP 发明人 TOMOFUJI TETSUYA
分类号 B08B3/08;C11D7/08;C11D7/50;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 B08B3/08
代理机构 代理人
主权项
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