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发明名称
METHOD FOR ETCHING SILICON OXIDE FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
KR1019930011906(B1)
申请公布日期
1993.12.22
申请号
KR1019910007707
申请日期
1991.05.13
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
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