| 发明名称 |
Method of in situ stoiciometric and geometrical photo induced modifications to compound thin films during epitaxial growth and applications thereof |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
USH1264(H) |
申请公布日期 |
1993.12.07 |
| 申请号 |
US19910691068 |
申请日期 |
1991.04.24 |
| 申请人 |
XEROX CORP |
发明人 |
EPLER JOHN E;CHUNG HARLAN F;PAOLI THOMAS L |
| 分类号 |
C23C16/04;C23C16/52;(IPC1-7):H01L21/20 |
主分类号 |
C23C16/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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