| 摘要 |
La presente invención se refiere a un dispositivo para inyectar gases en recipientes metalúrgicos, que comprende: a) tapón de formado con ductos que transportan gas y construído como un cono truncado circular de material refractario, b) una capa metálica que circunscribela superficie generada, exterior. del tapón de purado, y su área base, c) una tubería para sunistro de gas, dispuesta en el centro del área base, revestida con el metal del dispósito de gas, d) un bloque soporte que circunscribe a la superficie generada revestida con el metal del tapón de purgado caracterizado porque comprende: e) el extremo superior del tronco del tapón de gas que no está circunscrito por el bloque soprote, se extiende más allá del revestimiento del fondo del cazo al interior del cazo, y f) el bloque soporte y el tapón de purgado dispuesto ahí, se proporcionan con un recinto exterior de material refractario apisonado.
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