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发明名称 Anlage zur plasma-chemischen Dampfphasenreaktion.
摘要
申请公布号 DE68908194(T2) 申请公布日期 1993.12.02
申请号 DE19896008194T 申请日期 1989.01.27
申请人 SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD., ATSUGI, KANAGAWA, JP 发明人 HIROSE, NAOKI, ATSUGI-SHI KANAGAWA-KEN, JP;INSHIMA, TAKASHI, ATSUGI-SHI KANAGAWA-KEN, JP
分类号 C23C16/50;C23C16/27;C23C16/511;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/31;(IPC1-7):C23C16/50 主分类号 C23C16/50
代理机构 代理人
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