| 摘要 |
EL INVENTO SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA SUJETAR Y GIRAR LENTES EN UNA INSTALACION DE METALIZACION A ALTO VACIO O RAPIDA PARA CUBRIR GAFAS DE LENTES DE CRISTAL. EL INVENTO SE CARACTERIZA PORQUE EL DISPOSITIVO, DISPONE DE UN PAR (14, 15) DE ANILLOS QUE SOPORTAN LA LENTE A SUJETAR Y SE ALOJAN EN UN SUJETADOR (4) EN FORMA DE SUSTRATO, QUE ESTA SITUADO EN LA CAMARA DE PROCESO DE LA INSTALACION A ALTO VACIO. EL DISPOSITIVO TIENE UNAS PIEZAS DE CHAPA QUE SE CONFORMAN A MODO DE SEMI CARCASA, FORMAN EL SUJETADOR (4) QUE TIENE FORMA DE SUSTRATO Y GIRA ALREDEDOR DE UN EJE (33, 33'') VERTICAL Y SE SOLAPAN A PARTIR DE CORTE DE CHAPA EN FORMA DE HOZ, PARA CONFORMAR UN RASTRILLO (9). EL RASTRILLO (9) SE MANTIENE Y SE GUIA A PARTIR DE UN MANGUITO (40) QUE SE DESPLAZA EN DIRECCION DEL EJE (33, 33'') DE ROTACION Y DE UN MIEMBRO ELEVADOR (41) DE UN MOTOR DE ELEVACION (10), FIJADO EN LA PARED DEL RECIPIENTE, Y EL CANTO INFERIOR DEL EMPALME (43, 43'') INDIVIDUAL DEL RASTRILLO (9) VUELTO HACIA EL SOPORTE DEL SUSTRATO SE ALARGA, PARA ENGRANAR CON EL PIÑON O RUEDA DENTADA (35, 35'') DEL PAR DE ANILLOS (14, 14'') ALOJADOS SOBRE EL PIVOTE (18, 19, 18'', 19'') Y EL PAR DE ANILLOS (14, 14'') OSCILA ALREDEDOR DE 180 USTRATO GIRA SIMULTANEAMENTE ALREDEDOR DEL EJE (33, 33'') DE ROTACION.
|
