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发明名称 Polysilicon thin film semiconductor device containing nitrogen
摘要
申请公布号 US5266816(A) 申请公布日期 1993.11.30
申请号 US19920825586 申请日期 1992.01.24
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 SETO, SHUNSUKE;NOZAKI, HIDETOSHI;MORI, KAZUSHIGE
分类号 H01L29/78;H01L21/205;H01L21/336;H01L29/786;(IPC1-7):H01L29/04;H01L29/167;H01L/ 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
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