| 发明名称 |
Chemical vapor deposition method. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0387656(B1) |
申请公布日期 |
1993.11.24 |
| 申请号 |
EP19900104203 |
申请日期 |
1990.03.05 |
| 申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
TSUKUNE, ATSUHIRO;KOYAMA, KENJI |
| 分类号 |
C23C16/30;C23C16/44;C23C16/50;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):C23C16/44 |
主分类号 |
C23C16/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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