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发明名称 Verfahren zur Herstellung von zueinander parallel ausgerichteten Leiterschichtabschnitten
摘要
申请公布号 DE4123158(C2) 申请公布日期 1993.11.25
申请号 DE19914123158 申请日期 1991.07.12
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI, KANAGAWA, JP 发明人 SHIROTA, RIICHIRO, KAWASAKI, JP;MOMODOMI, MASAKI, YOKOHAMA, JP;NAKAYAMA, RYOZO, YOKOHAMA, JP;ARITOME, SEIICHI, KAWASAKI, JP;KIRISAWA, RYOUHEI, YOKOHAMA, JP;ENDOH, TETSURO, YOKOHAMA, JP;WATANABE, SHIGEYOSHI, YOKOHAMA, JP
分类号 H01L21/8247;H01L27/115;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L27/115;H01L21/72;H01L21/90 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人
主权项
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