| 发明名称 |
EXPOSURE BY ELECTRON BEAM |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH05308046(A) |
申请公布日期 |
1993.11.19 |
| 申请号 |
JP19920210490 |
申请日期 |
1992.08.06 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
YASUDA HIROSHI;TAKAHASHI YASUSHI;ABE TOMOHIKO;KANEDA HIROYUKI |
| 分类号 |
G03F7/20;H01J37/302;H01J37/317;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
