发明名称 Dispositif et machine à plasma de traitement chimique et procédé utilisant ce dispositif.
摘要 <P>Le dispositif comporte une source HF (2), une enceinte à plasma (4) comportant des alimentations en gaz, une pompe à vide (50), des éléments de couplage de la source à l'enceinte à plasma, cette dernière non rayonnante ayant la forme d'un parallélépipède rectangle avec des première et seconde faces en matériau diélectrique, parallèles à la direction du champ magnétique et une troisième face aussi parallèle à ce champ, équipée d'une ouverture rectangulaire (14) pour former un plasma en forme de ruban, une enceinte de traitement contenant un porte-échantillon (18) mobile communiquant via l'ouverture avec l'enceinte à plasma. Les moyens de couplage comportent deux guides (30, 38) d'ondes linéaire de section rectangulaire orientés selon la direction de propagation des ondes et disposés de part et d'autre de l'enceinte à plasma, un cornet (36) pour coupler l'un des guides à l'enceinte à plasma dont la section s'élargit dans le sens du champ magnétique, l'autre guide étant muni d'un court-circuit (46).</P>
申请公布号 FR2691035(A1) 申请公布日期 1993.11.12
申请号 FR19920005629 申请日期 1992.05.07
申请人 FRANCE TELECOM 发明人 CHOUAN YANNICK;LE CONTELLEC MICHEL;MORIN FRANCOIS;SAADA SERGE
分类号 C23C16/50;C23C16/511;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;(IPC1-7):H05H1/46;C23C16/42;C23F1/02 主分类号 C23C16/50
代理机构 代理人
主权项
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