| 发明名称 |
MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT USING PATTERN EXPOSURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH05291108(A) |
申请公布日期 |
1993.11.05 |
| 申请号 |
JP19920114050 |
申请日期 |
1992.04.07 |
| 申请人 |
MITSUBISHI HEAVY IND LTD |
发明人 |
OYAMA NAOKI;EGASHIRA YOSHIO |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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