Verfahren und Vorrichtung zum optischen Zweistrahlabtasten,申请号DE19914108470-传众专利搜索

发明名称	Verfahren und Vorrichtung zum optischen Zweistrahlabtasten
摘要
申请公布号	DE4108470(C2)	申请公布日期	1993.10.28
申请号	DE19914108470	申请日期	1991.03.15
申请人	HITACHI KOKI CO., LTD., TOKIO/TOKYO, JP	发明人	OHSHIMA, MINORU, KATSUTA, IBARAKI, JP;SAITOH, SUSUMU, KATSUTA, IBARAKI, JP;ISHIKAWA, MASAMI, KATSUTA, IBARAKI, JP;OGAWA, TSUKASA, KATSUTA, IBARAKI, JP;OBARA, KAZUTOSHI, KATSUTA, IBARAKI, JP
分类号	G02B26/10;B41J2/44;B41J2/47;H04N1/047;H04N1/113;H04N1/12;H04N1/19;H04N1/191;(IPC1-7):G02B26/10	主分类号	G02B26/10
代理机构		代理人
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