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发明名称 Formation of etch-resistant resists through preferential permeation.
摘要
申请公布号 EP0204253(B1) 申请公布日期 1993.10.20
申请号 EP19860107186 申请日期 1986.05.27
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 CHIONG, KAOLIN;YANG, BEA-JANE LIN;YANG, JER-MING
分类号 H01L21/302;G03F7/26;H01L21/3065;(IPC1-7):G03F7/26 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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