发明名称 |
环氧化二烯嵌段共聚物的羟基官能化衍生物及其制备方法 |
摘要 |
一种生产在二烯嵌段中含有羟基的共轭二烯的聚合物。一种含有0.1~15毫克当量羟基/克聚合物的共轭二烯嵌段共聚物。该聚合物包含式(I)或(II)的羟基。式中各基团的定义详见说明书。 |
申请公布号 |
CN1077459A |
申请公布日期 |
1993.10.20 |
申请号 |
CN93103654.2 |
申请日期 |
1993.04.01 |
申请人 |
国际壳牌研究有限公司 |
发明人 |
R·C·贝宁;J·R·埃里克森;D·J·斯特克莱尔;C·J·吉布勒;J·J·弗洛里斯;C·J·思塔克 |
分类号 |
C08F299/00;C08F8/08;C08J3/24;C08K5/16;C09D153/02 |
主分类号 |
C08F299/00 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利代理部 |
代理人 |
唐伟杰 |
主权项 |
1、一种生产在二烯嵌段含有羟基的共轭二烯嵌段聚合物的方法,该法包括以下步骤:(a)通过至少一种共轭二烯聚合生产前体聚合物,在聚合物中保留1,2二取代的、1,1二取代的、1,1,2三取代的或四取代的烯属不饱和性,(b)使所述的前体聚合物环氧化,以致在所述的取代位置形成环氧基,在聚合物中环氧基官能度的数量至少为0.1毫克当量/克聚合物,(c)环氧化的聚合物与有一个未保护的羟基的醇和通式为MXn的化合物或它的有机络合物接触,其中M选自氢、硼、铝、铁和锡;X为卤素和n为与M的价数相应的一个整数。 |
地址 |
荷兰海牙 |